新政策新需求新技术新应用尽在CHINAPHARM 2010

10.08.2010

新版GMP前后经过十余稿修订，目前正式进入送审阶段，并有望于今年年内出台。由于新版GMP对中国的制药设备提出了更高的要求，无论是制药生产企业，还是制药装备企业，都将面临新一轮的生存挑战。面对巨大的行业拓展空间，如何适应新形势，提升竞争力，成为中国制药行业的新课题。基于此，即将于 2010年10月26日～29日举行的“第十五届中国国际医药工业展览会暨技术交流会·中国医药工业国际论坛”（CHINA-PHARM 2010）特别针对新版GMP的政策需求，在展会期间不仅仅邀请到了众多的国内外知名品牌企业展示他们的新产品新技术，并且联合国际制药工程协会（ISPE）举办2010年国际制药工程中国大会，针对当前政策热点药品灭菌和除菌、除菌过滤、清洁验证、固体口服制剂、技术转移（研发到生产）、调试与确认、产品质量生命周期实现、计算机系统的合规性进行等进行高端深入探讨。

此外，众多企业参与了同期举办的2010CHINA-PHARM制药新技术及装备交流大会，分享他们的产品和实际应用的案例经验。专题研讨逾 10场次，涉及质量和风险控制解决方案，降低注射剂不良品发生率，新GMP规范下的液体制剂安全生产和检测，可视化药厂信息管理中心，过程控制及工厂运营管理等，参数放行等。

我们真诚地邀请您金秋十月在北京相见，预祝您参观之旅丰硕收获。

欲知更多展会详情，请登陆 www.chinapharmex.com

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